雷射加熱

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傳統的加熱器無法在氧氣環境下存活，因為加熱元件（加熱絲）在高溫下活性極高，在操作過程中非常容易損壞。

我們採用了截然不同的方式，AdNaNo-Tek 為您提供終極解決方案。基於我們的技術，真空腔體內部「沒有」任何加熱元件；因此腔體內不存在容易損壞的部件。

雷射裝置整合在配有冷卻系統的控制器內部，具備極長的壽命與超高加熱性能；且製程中只有基板（基片）處於高溫熱區，腔體的其餘部分則相當低溫（能維持冷卻狀態）。

在氧氣（Oxygen）或臭氧（Ozone）環境下加熱基板，是否常面臨加熱器損壞的困擾？

為您的脈衝雷射沉積系統（PLD）與氧化物分子束磊晶系統（Oxide MBE）換裝 AdNaNo-Tek 雷射加熱器。

將 Neocera Pioneer PLD 系統升級改裝為 AdNaNo-Tek 雷射加熱器。

五軸超高真空雷射加熱操縱器／樣品台

在氧氣環境下操作是否常遇到加熱問題？請把這個難題交給 AdNaNo-Tek。

在此案例中，我們的客戶因操縱器的加熱絲（燈絲）斷裂，導致脈衝雷射沉積（PLD）系統故障。我們透過換裝我們的雷射加熱器成功解決了這項問題；而最棒的是，原有的 Neocera 軟體功能依舊完好，且與 AdNaNo-Tek 雷射加熱器完美相容。

現在，這台 PLD 系統在真空中的任何氧氣條件下，都能輕鬆加熱至 1000 度；這才是真正的「雷射分子束磊晶（Laser MBE）」。

歡迎與我們聯繫以更換您老舊的加熱器；改裝過程非常簡單，您甚至可以自行安裝這款雷射加熱器！

主要規格

優勢

選配

相容於富氧或任何大氣環境條件

2 吋雷射加熱器

雷射控制器結合了多項頂尖技術

要為超高真空（UHV）薄膜沉積系統設計一款可在富氧或任何大氣環境條件下工作的高溫加熱器，絕非易事。

傳統的加熱材料與機構，其加熱元件材料會產生額外的蒸氣壓，進而限制了系統所能達到的超高真空度；同時，其加熱元件也會發生氧化，進而導致加熱材料劣化並影響製程品質。

目前有一些技術可以用來克服這項問題，例如白金（鉑）加熱元件、經過精心形狀設計的碳化矽（SiC）加熱元件等。然而，每種方法都有各自的缺點，例如維護頻率高、加熱組件因氧化導致壽命短暫等。

AdNaNoTek 的雷射加熱操縱器（樣品台），是為在富氧及任何大氣環境條件下進行超高真空（UHV）薄層沉積時加熱樣品所開發的完美解決方案。它完全不具備其他加熱器所擁有的缺點。

此外，它具備易於使用、結構緊湊、可客製化，以及快速且局部加熱的機構設計。系統配備了光學高溫計以監測溫度，並擁有系統控制軟體，可自動控制雷射加熱參數與製程。

AdNaNoTek 的雷射加熱操縱器非常適用於雷射氧化物／氮化物磊晶技術。