Adnanotek Corporation
關於我們
AdNaNoTek 是全球超高真空（UHV）技術與解決方案領域中崛起中的領導者。
我們專精於設計與製造最先進且完全可客製化的超高真空系統，能夠完美滿足各類研究與工業需求。
我們的產品與服務範圍包括：
超高真空沉積系統：
脈衝雷射沉積 (PLD)
脈衝雷射分子束外延 (PLMBE)
分子束外延 (MBE)
磁控濺鍍沉積 (Sputter)
電子束蒸發源 (E-Beam)
離子束濺鍍沉積 (IBSD)
原子層沉積系統 (ALD)
反應離子蝕刻 (RIE)
化學氣相沉積 (CVD)
客製化超高真空系統，以及整合型超高真空系統
超高真空零組件：
超高真空線性傳輸管道系統 (UHV Linear Tunnel System)
樣品/靶材更換器 (Sample/Target Exchanger)
行星式基板樣品托 (Planetary Substrate Manipulator)
客製化超高真空/高真空腔體 (Customized UHV/HV Chamber)
離子源 (Ion Sources)
濺鍍陰極 (Sputter Cathodes)
碳化矽（SiC）加熱系統 (SiC Heating System)
電子束加熱系統，以及雷射加熱系統
蝕刻系統：
反應離子蝕刻（RIE）系統
感應耦合電漿反應離子蝕刻（ICP RIE）系統
電子迴旋共振反應離子蝕刻（ECR RIE）系統
離子束蝕刻系統
我們的超高真空沉積系統保證能沉積出極高品質的薄膜。最先進的系統控制軟體提供了使用者友好的介面，可實現簡易的操作、精確的參數調整、即時的製程監控以及完整的數據記錄。
此外，我們也擅長提供高品質的客戶與技術服務，範圍涵蓋深入的理論與實作培訓、專業技術諮詢到技術支援。
憑藉我們在奈米技術、表面科學、半導體與薄膜鍍膜領域的廣博知識，在超高真空沉積技術方面的豐富經驗，以及與客戶的持續互動，
我們確信能夠：
- 1. 適應快速變化的技術。
- 2. 持續推進並優化我們的產品與服務。
- 3. 提供高品質的客戶與技術支援。
- 4. 成為全球學術機構、研究設施和製造產業中，領先的超高真空（UHV）技術與解決方案供應商。