微波電子迴旋共振等離子體產生器 聯絡我們 Categories: Electron Cyclotron Resonance Categories Menu Deposition System Thermo Evaporator E-Beam Evaporator Quantum Computing Deposition System Magnetron Sputtering Systems Molecular Beam Epitaxy (MBE) Pulsed Laser Deposition (PLD) Ion-Beam Sputter Deposition _IBSD Linear and cluster system Plasma System Reactive-Ion Etching ( RIE ) Inductively Coupled Plasma ( ICP ) Electron Cyclotron Resonance ( ECR ) Ion Beam Etching UHV System & Components Laser Heating 包含 800W 微波產生器 電子迴旋共振 (ECR) 電漿源 特點 運作僅需單一電源供應器 簡化整體推進器設計 利用電磁波 (EM waves) 加熱電漿 高密度電漿 本底壓力：5x10⁻⁷ torr 工作壓力：5x10⁻⁴ torr 頂部：微波功率 800W 底部：射頻 (RF) 或直流 (DC) 樣品尺寸：4 吋
