JEB - 4 聯絡我們 Categories: 量子運算沉積系統 Categories Menu 薄膜沉積系統 Deposition System 熱蒸鍍系統 Thermo Evaporator 電子束蒸鍍 E-Beam Evaporator 量子運算沉積系統 Quantum Computing Deposition System 磁控濺鍍 Magnetron Sputtering Systems 磁控濺鍍 Magnetron Sputtering Systems 分子束外延（MBE） 脈衝雷射沉積 Pulsed Laser Deposition (PLD) 離子束濺鍍沉積（IBSD） 線性與群集式系統 Linear and cluster system 電漿系統 Plasma System 反應離子蝕刻（RIE） 感應耦合電漿 ( ICP ) 電子迴旋共振 Electron Cyclotron Resonance ( ECR ) 離子束刻蝕 Ion Beam Etching 超高真空（UHV）系統與組件 雷射加熱 Laser Heating JEB-4 JEB-4 是一款四腔體系統，包含一個獨立的進出料鎖（Load Lock）腔體、離子束腔體，以及用於沉積高品質薄膜的電子束（E-beam）腔體。所有腔體均包含超高真空（UHV）相容的烘烤燈，用於系統烘烤（bake out）與樣品除氣（degassing）。 JEB-4 MBE 此款 JEB-4 機型能夠同時將滲流源（Effusion cell）作為 MBE 蒸發源與電子束（E-beam）源共同使用。並配置有雷射加熱與碳化矽（SiC）加熱器。
